Установка плазменной декапсуляции позволяет производить вскрытие корпусов с содержанием медных, палладиевых, золотых, серебряных или медных проводников при температурах менее 85°С.
Запрос отправленный через сайт имеет 100% приоритет перед всеми другими обращениями, включая почту INFO@ и рассматривается специалистом с 9:00 по 18:00 с ПН по ПТ. Полное описание
Линейка установок плазменной декапсуляции iCEMIP позволяет производить вскрытие корпусов с содержанием медных, палладиевых, золотых, серебряных или медных проводников при температурах менее 85С. Установка подходит для процессов локального травления, депассивации, удаления полиимида, очистки или активации поверхности. Установка доступна в стандартной конфигурации, а также в исполнении с увеличенной рабочей зоной iceMIP XL.
ОСОБЕННОСТИ
- декорпусирование без разрушения проволок Cu, Cu/Pd, Ag, Au, Al
- отсутствие ультразвуковых частот
- локальный процесс с автоматическим завершением
- запатентованный контроллер с отображением параметров процесса в реальном времени
- интуитивно понятное ПО
- низкая температура процесса, менее 85°С
Параметры
| Модель | iceMIP Standard | iceMIP XL |
| Размер камеры, мм | 300×300 | 450×450 |
| Мощность, ВА | 650 | 850 |
| Генератор, ГГц | 2,45 | 2,45 |
| Количество газовых линий с расходомерами |
4 | 4 |
| Тип газа | только О2 или с добавлением CF4 SF6 CHF3 | |
| Автоматический привод по осям | XYZ | XYZ |
| Габаритные размеры, мм | 475×500×1820 | 710×710×1100 |
| Вес, кг | 125 | 187 |
Отзывы
За дополнительной информацией по продукции обратитесь к специалистам компании «Глобал Микроэлектроника».
