Плазменная обработка (или плазменная очистка) — важная технологическая операция обработки поверхности кристаллов в низкочастотной (до 120 кГц) или среднечастотной (13, 56 МГц) плазме, предшествующий операциями монтажа кристаллов, микросварки проволочных соединений, заливки или герметизации корпусов. Плазменная обработка позволяет удалить поверхностные загрязнения, удерживаемые не только за счет физических, но и за счет химических связей, что обеспечивает однородность свойств поверхности и повышает адгезию.

В нашем каталоге представлены универсальные установки плазменной обработки PlasmaSTAR 100 и 200 производства Axic (США), в которых могут быть реализованы все известные режимы очистки начиная от RIE процесса и заканчивая безопасным режимом для обработки чувствительных кристаллов.


Для получения технической информации выберите интересующую модель и перейдите к её детальному описанию.

Офис в Москве

Глобал Микроэлектроника

Плазменная обработка (или плазменная очистка) – важная технологическая операция обработки поверхности кристаллов в низкочастотной (до 120 кГц) или среднечастотной (13, 56 МГц) плазме, предшествующий операциями монтажа кристаллов, микросварки проволочных соединений, заливки или герметизации корпусов.

г.Москва Высоковольтный проезд, 1/49, офис 218

+7 495 902 7921

Время работы: