Плазменная обработка (или плазменная очистка) — важная технологическая операция обработки поверхности кристаллов в низкочастотной (до 120 кГц) или среднечастотной (13, 56 МГц) плазме, предшествующий операциями монтажа кристаллов, микросварки проволочных соединений, заливки или герметизации корпусов. Плазменная обработка позволяет удалить поверхностные загрязнения, удерживаемые не только за счет физических, но и за счет химических связей, что обеспечивает однородность свойств поверхности и повышает адгезию.
В нашем каталоге представлены универсальные установки плазменной обработки, в которых могут быть реализованы все известные режимы очистки начиная от RIE процесса и заканчивая безопасным режимом для обработки чувствительных кристаллов.
Для получения технической информации выберите интересующую модель и перейдите к её детальному описанию.
