Mozaik MA-XK ꜛ установка экспонирования фоточувствительных паст Mozaik MA-XK ꜛ установка экспонирования фоточувствительных паст

Серия установок MA состоит из трех базовых моделей, рассчитанных на три типоразмера фотошаблона. Для быстрого экспонирования фоточувствительных паст в установках используется источник мощного УФ-излучения не образующий озона.

При необходимости получения линий высокого разрешения (ширина линии от 10 мкм) по толстопленочной технологии, т.е., без использования дорогостоящих процессов напыления, используются фотопроявляемые пасты. Установка экспонирования использует стандартный стеклянный фотошаблон, аналогичный используемым в микроэлектронике, для активации фотопроявляемой пасты на определенных участках.


Семейство установок экспонирования MA от компании Mozaik состоит из трех базовых моделей, рассчитанных на три типоразмера фотошаблона. Подложка с нанесенной на нее фоточувствительной пастой помещается на рабочий стол с вакуумным прижимом, а идеальное совмещение обеспечивается стереомикроскопом и микрометрическими винтами держателя фотошаблона.


Базовая установка имеет в составе источник мощного УФ-излучения для экспонирования фоточувствительных паст, длина волны 320-400 nm, мощность 1200 Вт, не образующий озона. Заслонка системы экспонирования с таймером для управления степенью засветки подложки программируется в интервале 1...99.9 с. Максимальная область экспонирования от 101×101 мм (модель МА-4К) до 250×250 мм (МА-10К). Горячее зеркало служит для минимизации воздействия ИК части спектра на подложку. Установка обеспечивает простой доступ к источнику излучения для замены ламп.

Рабочий стол-держатель подложки с вакуумным прижимом.

Стол совмещения фотошаблона расположен в сдвижном модуле. Держатель шаблона с вакуумным прижимом, подходит для стеклянных и пленочных фотошаблонов. Система совмещения имеет точность ±5 мкм, обеспечивающая контактный метод наложения шаблона и подложки.

Установка программируется управляющим контроллером, обеспечивающим установку параметров работы, работу установки в цикличном режиме, предупреждения о возможных ошибках и отображение информации на ЖК-индикаторе.

  • экспонирование в мощном УФ-излучении
  • управления степенью засветки подложки в интервале 1 до 99,9 с заслонкой системы экспонирования с таймером
  • использование горячего зеркала для минимизации воздействия ИК-части спектра на подложку
  • простой доступ к источнику излучения
  • вакуумный прижим шаблона
  • точность ±5 мкм
Максимальная область экспонирования, мм 101×101 (МА-4К) / 250×250 (МА-10К)
Питание 220-230 В, 50 Гц
Габариты, мм 440×540×580

За дополнительной информацией или консультацией обратитесь к менеджерам компании «Глобал Микроэлектроника».

Офис в Москве

Глобал Микроэлектроника

Серия установок MA состоит из трех базовых моделей, рассчитанных на три типоразмера фотошаблона. Для быстрого экспонирования фоточувствительных паст в установках используется источник мощного УФ-излучения не образующий озона.

г.Москва Высоковольтный проезд, 1/49, офис 218

+7 495 902 7921

Время работы: