Интеллектуальные системы отмывки и сушки подложек или пластин диаметром до 300 мм для эффективной подготовки пластин к дальнейшей обработке.
Чистота и надёжность, от которых зависит качество следующего этапа производства.
Запрос отправленный через сайт имеет 100% приоритет перед всеми другими обращениями, включая почту INFO@ и рассматривается специалистом с 9:00 по 18:00 с ПН по ПТ. Полное описание
Системы отмывки пластин HEYAN C81 и C120 предназначены для высокоэффективной очистки полупроводниковых пластин диаметром 6″, 8″ и 12″ после процессов резки, шлифовки и других технологических операций. Используя сочетание газовоздушной двухфазной очистки, вакуумной адсорбции и центробежной сушки, оборудование обеспечивает удаление загрязнений, микрочастиц и остатков технологических материалов, не повреждая поверхность пластин.
Компактные, надёжные и простые в эксплуатации, C81 и C120 находят широкое применение в производстве интегральных схем, оптоэлектроники, MEMS, фотоники, сенсорных и медицинских устройств. Благодаря точному контролю параметров и эргономичной конструкции они легко интегрируются в существующие производственные линии и идеально подходят как для массового производства, так и для исследовательских лабораторий.
Основные возможности системы
- газовоздушная двухфазная очистка — эффективное удаление загрязнений без повреждения поверхности
- вакуумная адсорбция и центробежная сушка — надёжная фиксация пластин во время обработки
- ионизация воздуха и антистатическая защита — предотвращение накопления заряда и защита чувствительных материалов
- регулируемая скорость и амплитуда движения руки для оптимальной эффективности очистки
- пять программируемых групп параметров очистки — точная настройка под различные типы материалов и задач
- сенсорный экран и управление на базе PLC — удобный интерфейс и стабильность работы
- компактные размеры и эргономичный дизайн — удобная интеграция в технологическую цепочку
- возможность индивидуальной кастомизации — адаптация оборудования под специфику производства
Параметры
| Модель | С81 | С120 |
| Максимальный размер пластины | 8″ | 12″ |
| Метод очистки | двухфазная газовоздушная смесь | |
| Толщина пластин, мм | 150–800 | 150–800 |
| Производительность, пластин/час | 80 | 70 |
| Загрузка и выгрузка | ручная | ручная |
| Рабочая поверхность | микропористый керамический вакуумный стол | |
| Система управления | ПЛК | ПЛК |
| Система управления оператором | сенсорный экран | сенсорный экран |
| Электропитание | AC 220V, 10A | AC 220V, 10A |
| Давление воздуха, МПа | 0,5 | 0,5 |
| Габаритные размеры установки, мм | 410×610×1410 | 600×680×1800 |
| Вес, кг | 160 | 240 |
